ФОТОРЕЗИСТ 300Х500 ММ

Фоторезист сухой пленочный ПФ-ВЩ водно-щелочного проявления производится по ТУ 6-43-1568-93.Фоторезист представляет собой несеребрянного светочувствительного материала, нанесенного на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом. Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает качественное осаждение слоя металла из электролита с pH менее 7. Химическая стойкость экспонированного фоторезиста и обеспечивает обработку в растворах с pH до 10 в течение минуты и более при температуре раствора 18-25°CОсобенности:- Обладает высокой разрешающей способностью - Удобен при нанесении на плату - Экономичен Технические характеристики:- Толщина светочувствительного слоя: 50 мкм - Разрешающая способность: 102 мкм - Время экспонирования в диапазоне 320-420 нм (лампой ДРТГ-3000) не более 35 с